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產品簡介
                納米氧化鋅研磨分散機是實現其納米級制備的核心設備,聚焦高效細化與分散協同。它通過高轉速轉子與定子組合,配合研磨介質,產生強剪切、沖擊作用,將氧化鋅顆粒細化至納米級,同時破除團聚。設備具備精準溫控與粒徑監測功能,適配涂料、橡膠、化妝品等領域,保障產品性能穩定。
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納米氧化鋅粒徑介于1-100 nm之間,是一種面向21世紀的新型高功能精細無機產品,表現出許多特殊的性質,如非遷移性、熒光性、壓電性、吸收和散射紫外線能力等,利用其在光、電、磁、敏感等方面的奇妙性能,可制造氣體傳感器、熒光體、變阻器、圖像記錄材料、壓電材料、壓敏電阻、高效催化劑、磁性材料和塑料薄膜等。
                 
納米氧化鋅的分散難點:納米氧化鋅分散到水中或者溶劑當中,容易出現抱團的現象,導致物料粒徑變大,分散效果不佳,產品改性不充分。

SID研磨式分散機,是由膠體磨+分散機結合而成的設備,主要是為了解決納米級物料的分散,如:納米碳酸鈣、納米氧化鋁、石墨烯、碳納米管等納米級物料的分散。
GMD2000系列研磨分散設備是SID公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經過膠體磨細化物料,然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)
GMD2000系列研磨分散機的特點:
① 線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨
② 定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離
④ 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業的多種要求

納米氧化鋅研磨分散機設備參數表:
研磨分散機  | 流量*  | 輸出  | 線速度  | 功率  | 入口/出口連接  | 
類型  | l/h  | rpm  | m/s  | kW  | |
GMSD2000/4  | 400  | 14,000  | 44  | 4  | DN25/DN15  | 
GMSD2000/5  | 1000  | 10,050  | 44  | 11  | DN40/DN32  | 
GMSD2000/10  | 3000  | 7,500  | 44  | 22  | DN80/DN65  | 
GMSD2000/20  | 8000  | 4,900  | 44  | 45  | DN80/DN65  | 
GMSD2000/30  | 20000  | 2,850  | 44  | 90  | DN150/DN125  | 
GMSD2000/50  | 60000  | 1,100  | 44  | 110  | DN200/DN150  | 
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調節到最大允許量的 10%。  | |||||
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